Скачать брошюру
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"

Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"

Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"
Устройства очистки аргона и других технических газов "Эпишур-А СЛ"

«Эпишур-А СЛ» — серия автономных установок, предназначенных для тонкой очистки не только аргона, но и всех инертных газов, водорода, кислорода, азота, пиролизных газов. Благодаря собственным разработкам, компания добилась возможности значительно улучшить характеристики установок (в некоторых случаях примеси суммарно составляют единицы ppb) без значительного повышения цены.

  • Описание
  • Характеристики
  • Применения
  • Скачать

Устройство «Эпишур-А СЛ» для очистки газов является эффективным средством получения чистых газов и может быть использовано для решения широкого спектра исследовательских и производственных задач, требующих чистой газовой среды или заданного газового состава в герметичных камерах (боксах), технологических установках и помещениях.

Первоначально производство «Эпишур-А СЛ» предназначалось для удовлетворения нужд лабораторий в чистом аргоне. Но постепенно, откликаясь на запросы различных предприятий и организаций, линейка выпускаемых устройств расширялась.

Кроме научных и исследовательских задач чистые газы широко применяются в промышленности. В металлургии для охлаждения металла, для ускорения плавления вводимых компонентов, для дегазации Al при литье, защиты от воздуха при разливе металлов, при выплавке Ti, W, Be, Zr и других металлов. При термообработке, контактных, лазерных, электродуговых сварочных работах. Для резки Cr, Ni, Al, Mg и их сплавов. В установках плазменного напыления, при производстве лазеров, в медицине.


В разделе «Применения» приведён перечень использования устройств «Эпишур-А СЛ» некоторыми нашими пользователями.

Особенности

  • Высокая надёжность. Установки «Эпишур-А СЛ» работают в заводских условиях более десяти лет без ремонта и в зависимости от модификаций - без замены фильтров.
  • Низкая стоимость эксплуатации. Ресурс фильтров и качество комплектующих имеют высокую степень надёжности. В редких случаях ремонта - стоимость деталей невысока.
  • Фильтры, а также основные детали установок производится ГК «Спектральная лаборатория», следовательно, они всегда в наличии и по минимальной цене.
  • Из имеющейся линейки моделей установок заказчик может выбрать оптимальную. Можно изготовить эксклюзивную модель по техническому заданию.
  • Цена любой установки много ниже импортных аналогов.
  • Режим регенерации фильтров производится без отключения установки от газовых коммуникаций.
  • До семи стадий очистки. В процессе очистки инертных газов газопоглотители удаляют кислород, азот, водород, угарный газ, углеводороды. Молекулярный фильтр отсеивает посредством физической адсорбции водяные пары, углекислый газ и сероводород. Фильтр тонкой очистки защищает от частиц пыли размером более 1 мкм.


В базовом варианте очистка газа до уровня 0,5 ppm суммарного количества всех вредных примесей. В комплектации с финишными каталитическими фильтрами — до уровня 1 ppb.

«Эпишур-А» чистит не только аргон и другие инертные газы, но и кислород, азот, водород, пиролизные газы.

Применения

  • Очищенный аргон используется для оптической спектроскопии разных видов, а гелий и аргон – для газовой хроматографии.
  • Для научных исследований. Пример: была выпущена установка очистки аргона с примесями менее 1 ppt (99.999 999 999 9%).
  • При сварочных работах.
  • В авиастроении.
  • В химических производствах.
  • В космической промышленности.
  • В ядерной отрасли.
  • В промышленности полимеров.
  • При выплавке титана и производстве титановых деталей.
  • При производстве термокерамики.
  • При выращивании монокристаллов. В том числе при лазерном выращивании кристаллов из металлических порошков.
  • Кислород и водород с содержанием примесей не более 1 ppm применяются для производства кварцевых стёкол.
  • При производстве оптоволокна.
  • Водород для производства катализаторов.
  • Чистый азот и гелий для высокотехнологичных производств.
  • Для производства чистых пиролизных газов.
  • Для производства чистого водорода в промышленных целях.

Первоначально разработка и производство устройств для очистки газов было вызвано необходимостью получения аргона для спектрометров. Содержание аргона не менее 99,998%. Откликаясь на потребности разных отраслей, были созданы установки для очистки не только всех инертных и пиролизных газов, но и водорода, азота и кислорода с гораздо меньшим количеством примесей (до ppb).


Основные технические характеристики модификаций «Эпишур-А СЛ»

Параметры

Эпишур-А 100 СЛ

Эпишур-А 12 СЛ

Эпишур-А 04 СЛ

Эпишур-А 32 СЛ

 Эпишур-А 21 (212; 204; 232) СЛ

Производительность, max л/мин

10

30

100

500

 30-500

Предполагаемый уровень загрязнения газа на входе, ppm

≤ 50

70-150

100-300

300-1000

 70-1000

Уровень загрязнения газа на выходе (базовое исполнение устройства), ppm

< 0,5

 < 0,5 по объёмной доли влаги

Уровень загрязнения газа на выходе (с использованием фильтров финишной очистки), ppt

<100 по H2O, O2, CO, CO2, H2 (для очистителей азота и аргона). Фильтрация от механических частиц 0.003 мкм

 -

Фильтрация от механических частиц, мкм

≥1

(≥ 0,01 по отдельному запросу)

Время выхода в рабочий режим, мин.

15

15

30

60

7

Потребляемая мощность в рабочем режиме, кВт

≤1

≤1

≤2

≤3

 ≤1

Масса, кг

30

40

57

190

 Стандартные корпуса Эпишур-А СЛ

Габаритные размеры, мм

750x420x 320

730x590x 360

1130x610x390

1800x840x580

 

Применения прибора обширно:
  • Очищенный аргон используется для оптической спектроскопии разных видов, а гелий и аргон – для газовой хроматографии.
  • Для научных исследований. Пример: была выпущена установка очистки аргона с примесями менее 1 ppt (99.999 999 999 9%).
  • При сварочных работах.
  • В авиастроении.
  • В химических производствах.
  • В космической промышленности.
  • В ядерной отрасли.
  • В промышленности полимеров.
  • При выплавке титана и производстве титановых деталей.
  • При производстве термокерамики.
  • При выращивании монокристаллов. В том числе при лазерном выращивании кристаллов из металлических порошков.
  • Кислород и водород с содержанием примесей не более 1 ppm применяются для производства кварцевых стёкол.
  • При производстве оптоволокна.
  • Водород для производства катализаторов.
  • Чистый азот и гелий для высокотехнологичных производств.
  • Для производства чистых пиролизных газов.
  • Для производства чистого водорода в промышленных целях.

Заказчики установок "Эпишур-А СЛ"

/podderzka/Заказчики Эпишур-А.pdf